掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子缔造进程中的图形蜕变器械或母版，是承载图形策画和工艺身手等学问产权讯息的载体。
跟着半导体工业集体需求连续扩张，环球光掩模板周围显露为稳步增加趋向，行业集体身手壁垒深重，工业聚积度高，龙头议价本事高，利润水准高，2022年环球光掩膜版市集周围约莫为49亿美元，估计2023年将达51亿美元。
2017-2022年，我国掩膜版市集周围集体呈上升趋向。2021年我国掩膜版市集周围为108.00亿元；2022年集体市集周围约为126.36亿元。此中半导体芯片掩膜版占掩膜版行业市集周围的60%，2022年我国半导体芯片掩膜版市集周围约为75.82亿元；看待平板显示掩膜版来说，2022年我国平板显示（FPD）掩膜版市集周围约为35.38亿元。
从投融资景况来看，2021年为中国掩膜版投融资金额最高的年份，抵达了22.39亿元，要紧缘故正在于国内正正在加快掩膜版干系工业国产化过程。2022年投融资热度有所低落，投融资金额为17.16亿元。截至2023年3月，2023年我国掩膜版工业投融资金额为6亿元，投融资变乱为2起。美国修订《出口拘束条例》将250nm及以下造程的掩膜版纳入节造清单，而国内晶圆厂多不具备掩膜版坐褥本事，国产取代确定性强，估计将来将有更多龙头企业加快坐褥身手研发参加，尽速告竣掩膜版国产取代。
掩膜版行业是国民经济支柱性工业之一，其发达水准是量度一个国度科技发达水准的中心目标。近年来，为了进一步勉励国内掩膜版的集体发达，粉碎表洋垄断，加强科技角逐力，国度干系部委出台了一系列撑持和领导掩膜版行业发达的战略律例。从我国十四五筹划干系实质来看，要紧提出需求聚积上风资源攻合多周围合头中心身手，此中集成电道周围包含集成电道策画器械开采、重心装置和高纯靶材开采，集成电道进步工艺和绝缘栅双极晶体管(IGBT)、微机电体系(MEMS)等特质工艺打破，进步存储身手升级，碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体发达。2022年6月，工信部印发《工业能效提拔步履安插》，提出撑持缔造企业加紧绿色策画，抬高汇集筑立等讯息措置筑立能效。胀吹低功耗芯片等产物和身手正在转移通讯汇聚积的使用,胀吹电源、空调等配套办法绿色化改造。
工业酌量院宣告的《2025-2030年中国掩膜版行业投资筹划及远景预测呈文》共七章。最先阐明了中国掩膜版的发达情况及国表里掩膜版的发达景况；然后呈文阐明了掩膜版工业链上游的发达景况——玻璃基板、光刻机、刻蚀筑立、光刻胶，并深化阐明了掩膜版工业链下游的发达景况——半导体、平板显示、印刷电道板及触控；随后，呈文阐明了国内掩膜版要紧企业的筹办景况；结果，呈文重心阐明了中国掩膜版的投融资景况，并对其将来发达远景趋向实行了科学的评估。
本酌量呈文数据要紧来自于国度统计局、工业和讯息化部、发达与鼎新委员会、工业酌量院、工业酌量院市集侦察中央以及国表里重心刊物等渠道，数据巨头、详确、厚实。您或贵单元若念对掩膜版有个人系深化的明白、或者念投资掩膜版干系工业，本呈文将是您不行或缺的紧要参考器械。
